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【脫水研報】華為公布兩項專利技術 碳化硅成芯片散熱新路線

9月19日,截至午間收盤,碳化硅概念股表現活躍,天富能源、天通股份漲停,東尼電子、晶升股份、天岳先進、晶盛機電等跟漲。

消息面上,日前,華為公布兩項專利,均涉及碳化硅散熱,包括《導熱組合物及其制備方法和應用》和《一種導熱吸波組合物及其應用》,兩項專利均用碳化硅做填料,提高電子設備的導熱能力。其中,前者應用領域包括電子元器件的散熱和封裝芯片,后者應用領域包括電子元器件、電路板。

除此之外,此前英偉達在其新一代Rubin處理器設計中,將CoWoS先進封裝的中間基板材料從硅更換為碳化硅,以提升散熱性能,并預計2027年開始大規模采用。

碳化硅材料具有優異的導熱性能,僅次于金剛石。公開資料顯示,碳化硅熱導率達500W/mK,相比之下,硅的熱導率僅為約150W/mK,陶瓷基板熱導率約200W/mK~230W/mK。此外,碳化硅熱膨脹系數與芯片材料高度契合,既能高效散熱,又能保障封裝穩定性。

據數據寶統計,今年9月份以來,多只碳化硅概念股獲融資資金加倉,通富微電、露笑科技、天岳先進、英唐智控、天通股份獲加倉金額均超過3億元。

碳化硅應用領域從電力電子擴展到封裝散熱,打開了市場增量空間。東吳證券測算,以當前英偉達H100 3倍光罩的2500mm2中介層為例,假設12英寸碳化硅晶圓可生產21個3倍光罩尺寸的中介層,2024年出貨的160萬張H100若未來替換成碳化硅中介層,則對應76190張襯底需求。

責任編輯:榮曉敏

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