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ASML首席技術官:明年將向客戶交付首臺High-NA EUV光刻機

   ASML首席技術官Martin van den Brink日前受訪時表示,目前公司正有序推行其路線圖,在EUV之后是High-NA EUV技術。ASML正在準備向客戶交付首臺High-NA EUV光刻機,大概會在明年某個時間點完成。至于High-NA EUV技術之后的技術方案,Martin表示,ASML正在研究降低波長,但其懷疑Hyper-NA將是最后一個NA,可能是接下來半導體光刻技術發展出現問題的地方,其制造和使用成本都高得驚人,且不一定能真正投入生產,當前半導體光刻技術之路或已走到盡頭。

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